為使特殊性工業區空氣品質監測管制內容更為完備，環保署修正「特殊性工業區緩衝地帶及空氣品質監測設施設置標準」(以下簡稱標準)，主要修正內容包括將半導體製造工業與光電材料及元件製造業納入特殊性工業類別予以管制，同時增加特殊性工業區空氣品質監測站、監測項目及頻率。該標準實施後，特殊性工業區空氣品質監測站、監測項目及頻率均大幅增加，將更有效及完整監測特殊性工業區空氣污染物排放情形。
環保署表示，該標準原於民國83年1月21日發布，以作為管制開發單位於開發特殊性工業區時，設置緩衝地帶及空氣品質監測設施之依據。民國88年9月15日雖曾修正發布部分條文，惟時空變異，因應石化工業、鋼鐵工業及其他高科技新興產業開發案，其排放空氣污染物對於健康風險及環境影響之疑慮，原標準管制內容已不符管制需求，為更有效及完整監測特殊性工業區空氣污染物排放情形，該署特修正本標準。
本次標準修正時，考量半導體製造工業與光電材料及元件製造業排放之空氣污染物成分複雜，將其納入特殊性工業類別，予以管制。另外，應測定項目則增訂揮發性有機物、有機光化前驅物、有害空氣污染物、酸鹼氣、硫化物及戴奧辛等項目。關於監測站數量部分，為符合空氣品質監測管制需求，並回應民眾對特殊性工業區設置空氣品質監測站之期待，依特殊性工業類別空氣污染物排放後影響範圍考量，要求容納特定特殊性工業類別之特殊性工業區，應於所在及其周界緊鄰之鄉鎮市區各設置至少1個空氣品質監測站，並另外於適當地區設置至少4個空氣品質監測站；其餘特殊性工業區則應於適當地區設置至少4個空氣品質監測站。另為避免資源浪費，規定同1鄉(鎮、市、區)內之空氣品質監測站，得合併設置。
環保署表示，特殊性工業區排放之空氣污染物可能具有成分複雜或排放量大等特性，為降低民眾對於健康風險及環境影響疑慮，空氣品質監測確有必要，呼籲開發單位應善盡環境保護義務，確實依本標準規定辦理空氣品質事宜。