環保署為避免高科技產業排放水對飲用水安全產生不良影響，於98年11月26日修正發布飲用水水質標準，增列「鉬、銦」兩項管制標準。
該署訂定之「飲用水水質標準」係根據飲用水管理條例第11條第2項授權，自民國87年發布後，已歷經92年、94年、97年3次檢討修正，以提昇公眾飲用水水質，維護國民健康。近年來國內科學工業園區增多，加上高科技產業之事業種類日趨複雜，對天然水體衝擊日益增大。該署基於飲用水管理職掌，廣泛蒐集世界衛生組織、歐盟以及美加、紐澳、日韓、英國、蘇格蘭、北愛爾蘭、荷蘭、新加坡等國家飲用水水質標準之相關規定，增列「鉬、銦」兩項管制標準。
環保署表示，本次修訂主要目的是為顧及國人對飲用水水質安全的迫切需求，經綜合評估國內現況、檢驗技術之可行性，規範自來水淨水場取水口上游周邊5公里範圍內有半導體製造業、光電材料及元件製造業等污染源者，應每季檢驗1次，如連續2年檢測值未超過最大限值，自次年起檢驗頻率得改為每年檢驗1次。上述增訂管制項目施行日期，自即日起施行。
環保署指出，有關本次修正發布之相關內容，已詳載於該署飲用水全球資訊網站（網址：http://tsm.epa.gov.tw/drinkwater/index-7.htm ），民眾及公共給水機構可於環保署網頁閱覽與免費下載。