環保署於112年2月18日預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案（以下簡稱本標準），以「務實、自主及簡化」三大重點進行研修，增訂排放濃度標準及檢討監檢測規範，爰訂定個別排放管道濃度標準取代過去全廠排放量之管制方式，強化排放管道自主監測及簡化定期檢測相關規範，同時兼顧空污防制管理與產業發展，落實簡政便民。
鑑於半導體製造業等高科技產業蓬勃發展，關注衍生之環境保護課題更顯其重要性，為使環境保護與產能管理更具彈性，同時督促新建廠房或新設製程應選擇污染排放較低或防制效能較佳之設備，本標準修正不分規模之全廠總排放量管制方式，改以個別排放管道濃度規範並增訂新設製程排放標準，提升主管機關之查核及業者自主管理作業之便利性。另外，本標準配合111年6月6日公告訂定「公私場所應定期檢測及申報之固定污染源」簡化整合空污法涉檢測相關規定，亦針對排放濃度高且易致污染之虞者，規範應設置相關排放監測器以強化自主管理。
環保署表示，本標準自88年1月6日發布施行後，已從技術觀點直接管制其製程空氣污染物之排放，奠定對半導體產業空污防制有效管理之基礎，期間多項規定雖經修正調整，惟迄今相關規範已屆十餘年未檢討，經通盤檢討歷年執行實績及面臨問題後，確實有與時俱進之修正必要，爰針對本標準內容進行檢討及修正，提升當前空氣污染防制現況與管理機制，同時，考量產業特性調整「公私場所應定期檢測及申報之固定污染源」檢測期間規範。透過本次修法，除落實簡政便民原則，並使半導體產業之空污防制管理更臻完備，創造環境保護與產業發展運作共利效益。
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